Analisador de Gás Residual - Série HPR-30

SKU: HPR-30

Descrição

Sistemas de análise de gás residual para análise de processos a vácuo

A Série HPR-30 são sistemas de análise de gás residual configurados para análise de gases e vapores em processos a vácuo e para diagnósticos de vácuo, com capacidade de amostragem desde alto vácuo até pressão atmosférica. Os sistemas são totalmente configuráveis para aplicações de processos individuais, como CVD, ALD, gravação por plasma, MOCVD, pureza de gás de processo e monitoramento de contaminantes em processo.

Visão Geral

Os sistemas da Série HPR-30 se especializam em análise rápida e altamente sensível de gases e vapores em processos a vácuo. Eles são essenciais para tarefas como detecção de vazamentos, monitoramento de contaminação, análise de tendências de processos e avaliação de espécies de alta massa e precursores, especialmente em aplicações como ALD e MOCVD.

As configurações de amostragem disponíveis são:

HPR-30 Cart: Equipado com entrada de amostragem de condutância dupla, possui uma abertura reentrante conectada diretamente para amostragem dentro da zona do processo. Isso garante precisão incomparável dos dados e verificação rápida do status do processo.

HPR-30 Multi Inlet Cart: Apresenta várias entradas adaptáveis, cada uma com 1m de comprimento, emparelhadas com uma conexão de coletor de válvula tripla. Possui comutação automática que facilita a análise em uma ampla faixa de pressão do processo.

HPR-30 SGL: Projetado com uma única linha de amostragem aquecida, é perfeito para cenários com espaço limitado para ligações de amostragem. Especialmente quando a análise de subprodutos menos voláteis requer uma entrada constantemente aquecida. Além disso, oferece a opção de coleta de dados em tempo resolvido, tornando-o ideal para monitoramento de processos de deposição pulsada.

Um recurso avançado disponível é o sistema de filtro triplo quadrupolo da série Hiden 3F. Isso oferece sensibilidade aprimorada, com níveis de detecção na escala de ppb, e superior resistência à contaminação. Isso o torna especialmente poderoso para análise de gases agressivos em aplicações CVD e RIE.

Recursos

- Sistemas de amostragem de processos a vácuo versáteis e configuráveis

- Opções de faixa de massa: 200, 300, 500 ou 1000 amu

- Detecção de vazamentos

- Análise de tendências de processos

- Monitoramento de contaminação