Análise de gás residual (RGA), análise de íons de plasma, análise de superfície e detecção de ponto final por SIMS são essenciais para caracterização precisa em aplicações de filmes finos, plasma e engenharia de superfície.
Um sistema para análise de neutros, radicais e íons. O espectrômetro de massa de feixe molecular Hiden HPR-60 é um MS de entrada de skimmer compacto para a análise de plasma atmosférico e intermediários reativos em fase gasosa.
Tecnologia avançada de dessorção térmica projetada para precisão excepcional e versatilidade em uma variedade de aplicações científicas e industriais.
O analisador de superfície Compact SIMS é projetada para caracterização rápida e fácil de estruturas de camadas, contaminação de superfície e impurezas, com detecção sensível de íons positivos auxiliada pelo feixe de íons primários de oxigênio, oferecendo sensibilidade isotópica em toda a tabela periódica. A geometria do canhão de íons é ideal para resolução de profundidade em nanômetros e análise de superfície próxima.
Sistema de análise de superfície XBS da Hiden Analytical: Oferece alta sensibilidade, estabilidade a longo prazo, controle avançado de fonte de íons e resistência aprimorada à contaminação, ideal para monitoramento preciso de múltiplas fontes de feixe em aplicações críticas de deposição molecular.
A Série HPR-30 são sistemas de análise de gás residual configurados para análise de gases e vapores em processos a vácuo e para diagnósticos de vácuo, com capacidade de amostragem desde alto vácuo até pressão atmosférica.
O IG5C apresenta uma fonte de ionização de superfície de baixa potência e alto brilho acoplada a uma coluna de íons compacta, proporcionando alto desempenho em um pacote pequeno. O canhão é projetado como um feixe de íons primários para todas as aplicações SIMS, dinâmicas, estáticas e de imagem.
A Hiden Analytical oferece instrumentação extremamente versátil e de alta sensibilidade para análises SIMS (espectrometria de massa de íons secundários) dinâmicas e estáticas de alto desempenho, desbloqueando novos níveis de precisão em aplicações de ponta. Com uma gama estendida e a capacidade de adquirir e identificar íons secundários positivos (+ve) e negativos (-ve), a estação de trabalho SIMS é uma solução abrangente para aplicações de análise de composição e perfilagem de profundidade.
As sondas de plasma da Hiden medem alguns dos principais parâmetros do plasma e fornecem informações detalhadas sobre a química de reações no plasma.
O IG20 apresenta uma fonte de íons de gás de impacto de elétrons de alto brilho, projetada especificamente para a capacidade de oxigênio, mas também adequada para uso com gases inertes e outros gases.
O monitoramento rotineiro das características I-V do plasma pela sonda ESPion da Hiden fornece informações diretas sobre estabilidade e reprodutibilidade do plasma. A extrapolação automática em tempo real dos parâmetros do plasma oferece detalhes sobre suas propriedades para uso na caracterização e monitoramento de uniformidade.
A Hiden Analytical fornece soluções de espectrometria de massa de classe mundial e ferramentas inovadoras para análises de íons, incluindo o consagrado Hiden EQS. Este espectrômetro de massa de íons secundários de quadrupolo eletrostático de alta transmissão (SIMS) é um dos nossos sistemas de detecção mais populares para análise de superfícies em escala nanométrica de filmes finos em pesquisas.
A IMP-EPD é um espectrômetro de massa de íons secundários diferencialmente bombeado e robusto para análise de íons secundários do processo de gravação por feixe iônico. O sistema inclui software integrado com algoritmos específicos do processo desenvolvidos para controle ótimo do processo.
O analisador MAXIM de quadrupolo SIMS é um espectrômetro de massa de íons secundários de última geração para aplicações analíticas de íons positivos e negativos, estáticos, dinâmicos e neutros. O sistema analisador MAXIM inclui um filtro de energia integrado para aceitação de íons a 30° do eixo da sonda, óptica de extração SIMS de alta transmissão, filtro de massa triplo, detector de contagem de íons de pulso e eletrônica de controle.
O sistema Hiden TOF-qSIMS é projetado para aplicações de análise de superfície e perfilagem de profundidade de uma ampla variedade de materiais, incluindo polímeros, produtos farmacêuticos, supercondutores, semicondutores, ligas, revestimentos ópticos e funcionais e dielétricos, com medição de componentes em níveis de traço até sub-ppm.
Espectrômetros de massa e energia de quadrupolo de alto desempenho para a caracterização de plasmas.
