Difratômetro de Raios X de Alta Resolução para Filmes Finos e Monocristais AXRD LPD-HR

SKU: AXRD LPD-HR

Sistema XRD de alta resolução para filmes finos, monocristais e materiais epitaxiais. Realize XRR, Rocking Curves e RSM com máxima precisão.

Descrição

AXRD LPD-HR é um difratômetro de raios X de alta resolução desenvolvido para laboratórios que necessitam realizar caracterizações avançadas de filmes finos, estruturas multicamadas, materiais epitaxiais e monocristais.

Baseado na consagrada plataforma AXRD LPD e equipado com óptica avançada de alta resolução, o sistema oferece a máxima precisão angular para aplicações de pesquisa, desenvolvimento de materiais e controle de qualidade de alta exigência.

Projetado para atender desde laboratórios acadêmicos até centros de pesquisa e ambientes de produção de alta tecnologia, o AXRD LPD-HR combina um goniômetro de última geração com os mais recentes avanços em motores de precisão e encoders digitais, proporcionando excelente estabilidade mecânica, repetibilidade e qualidade de dados para análises estruturais complexas.

O sistema é ideal para a caracterização detalhada de filmes finos, revestimentos multicamadas, semicondutores, materiais epitaxiais, dispositivos eletrônicos avançados e monocristais, permitindo análises quantitativas e qualitativas com elevado nível de confiabilidade.

Caracterização Avançada para Filmes Finos e Materiais Monocristalinos

O AXRD HR foi desenvolvido especificamente para aplicações que exigem medições de altíssima resolução, oferecendo recursos avançados para investigação estrutural e microestrutural de materiais.

Entre as principais aplicações estão:

  • Filmes finos epitaxiais
  • Revestimentos multicamadas
  • Monocristais
  • Semicondutores
  • Materiais avançados para microeletrônica
  • Optoeletrônica
  • Nanotecnologia
  • Pesquisa em ciência dos materiais
  • Controle de qualidade de dispositivos de alta performance

Reflectometria de Raios X (XRR)

A técnica de Reflectometria de Raios X (XRR) permite caracterizar as propriedades físicas da superfície e das interfaces de filmes finos e revestimentos multicamadas com elevada precisão.

O AXRD LPD-HR possibilita determinar:

  • Espessura das camadas
  • Rugosidade da superfície
  • Rugosidade das interfaces
  • Densidade
  • Composição química
  • Densidade de discordâncias

O sistema pode analisar materiais:

  • Amorfos
  • Policristalinos
  • Monocristalinos

Essas informações são fundamentais para o desenvolvimento e controle de processos em semicondutores, revestimentos funcionais e materiais nanoestruturados.

Rocking Curves de Alta Resolução

As Rocking Curves (curvas de oscilação) são utilizadas para avaliar a qualidade cristalina de camadas epitaxiais e monocristais.

Com o AXRD LPD-HR é possível determinar:

  • Composição das camadas
  • Espessura das camadas
  • Desajuste cristalográfico
  • Relaxamento e deformação da rede cristalina
  • Inclinação e curvatura das camadas
  • Desorientação cristalina
  • Mosaicidade
  • Densidade de discordâncias

Essas análises são essenciais para aplicações em semicondutores, eletrônica avançada e crescimento epitaxial de materiais.

Mapeamento de Espaço Recíproco (RSM)

O Mapeamento de Espaço Recíproco (RSM) é uma das técnicas mais completas para caracterização de filmes finos e materiais epitaxiais.

Com esta técnica é possível:

  • Separar efeitos de deslocamento dos picos de Bragg
  • Determinar deformações cristalinas com elevada precisão
  • Calcular parâmetros de rede cristalina
  • Avaliar espessura de camadas
  • Diferenciar alterações causadas por tensão mecânica ou mudanças de composição
  • Identificar alargamentos provocados por mosaicidade ou curvatura cristalina

O RSM fornece informações estruturais extremamente detalhadas, sendo indispensável para análise de filmes tensionados e heteroestruturas avançadas.

Recursos e Diferenciais

O AXRD HR aproveita toda a robustez da plataforma AXRD LPD, agregando componentes ópticos especializados para medições de alta resolução.

Principais benefícios:

  • Óptica de alta resolução para filmes finos e monocristais
  • Máxima precisão angular e estabilidade mecânica
  • Excelente repetibilidade dos resultados
  • Ideal para aplicações de pesquisa e produção
  • Compatível com análise de filmes finos, multicamadas e materiais epitaxiais
  • Integração com técnicas avançadas de caracterização estrutural
  • Plataforma expansível e configurável conforme a necessidade do laboratório

Aplicações Principais

  • Caracterização de filmes finos
  • Revestimentos multicamadas
  • Materiais epitaxiais
  • Semicondutores
  • Dispositivos microeletrônicos
  • Materiais fotônicos
  • Nanomateriais
  • Pesquisa acadêmica
  • Desenvolvimento de novos materiais
  • Controle de qualidade avançado

Diferenciais da Tennessine

A Tennessine Instrumentação Analítica é representante autorizada da PROTO no Brasil, oferecendo suporte especializado para seleção, instalação e operação de sistemas avançados de difração de raios X.

Ao adquirir o AXRD LPD-HR com a Tennessine, sua equipe conta com:

  • Suporte técnico local
  • Treinamento especializado em português
  • Garantia oficial do fabricante
  • Consultoria para configuração do sistema
  • Atendimento pós-venda especializado